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Technical articles7寸人機(jī)界面｜5段程序鍍膜｜可擴(kuò)展膜厚監(jiān)測(cè)在科研與半導(dǎo)體制備中，鍍膜的均勻性、附著力和工藝可重復(fù)性，往往決定了最終器件的性能。直流磁控濺射因其濺射速率快、成膜致密、與金屬電極制備兼容性好，正成為越來(lái)越多實(shí)驗(yàn)室和量產(chǎn)線的首1選。今天介紹的這款7寸人機(jī)界面直流磁控濺射設(shè)備，不僅覆蓋了常規(guī)電鏡制樣需求，更向功能薄膜與電極制備方向做了系統(tǒng)優(yōu)化。一、控制與電源：讓人機(jī)交互更簡(jiǎn)單設(shè)備采用7寸人機(jī)界面，支持手動(dòng)與自動(dòng)模式切換。新手可以快速上手手動(dòng)調(diào)節(jié)，熟練后一鍵調(diào)用自動(dòng)程序。直流濺射電源最...
一體化集成渦旋無(wú)油真空泵，以動(dòng)靜渦旋盤的嚙合運(yùn)動(dòng)為心臟，正通過(guò)多維度結(jié)構(gòu)革新，重塑干式真空技術(shù)的性能天花板。一、動(dòng)平衡優(yōu)化——消除振動(dòng)之源。動(dòng)渦旋盤的偏心運(yùn)動(dòng)必然產(chǎn)生離心力，這是振動(dòng)與噪聲的元兇。當(dāng)前優(yōu)方案是將傳動(dòng)機(jī)構(gòu)簡(jiǎn)化為平行四桿機(jī)構(gòu)，采用二次平衡法推導(dǎo)質(zhì)心位置方程，以ADAMS進(jìn)行參數(shù)化仿真，以主軸離心合力為目標(biāo)函數(shù)、大小平衡塊尺寸為設(shè)計(jì)變量進(jìn)行優(yōu)化。大平衡塊置于主軸靠近曲軸端并以鍵連接，小平衡塊置于電機(jī)端以螺釘固聯(lián)于聯(lián)軸器表面，優(yōu)化后經(jīng)ANSYSWorkbench有限元...
在生物、化學(xué)及醫(yī)學(xué)實(shí)驗(yàn)室中，樣品保存的穩(wěn)定性直接關(guān)系到實(shí)驗(yàn)結(jié)果的可靠性。試管作為常見的實(shí)驗(yàn)容器，其封口方式多種多樣，其中一種技術(shù)被稱為試管真空封口。這項(xiàng)技術(shù)通過(guò)特定的裝置將試管內(nèi)部空氣抽出，形成負(fù)壓環(huán)境，再以密封材料封閉管口，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)內(nèi)容物的保護(hù)。試管真空封口的核心在于“真空”狀態(tài)的建立。當(dāng)試管內(nèi)部氣壓低于外部大氣壓時(shí)，管口會(huì)因壓力差而緊密貼合密封件，形成物理屏障。這種密封方式不同于簡(jiǎn)單的橡膠塞或螺旋蓋，它依賴的是內(nèi)外氣壓的差異，而非單純的機(jī)械擠壓。實(shí)際操作中，通常使用真空...
渦旋無(wú)油真空泵以潔凈無(wú)油、低噪穩(wěn)定著稱，廣泛用于半導(dǎo)體、醫(yī)藥、食品等領(lǐng)域。養(yǎng)好它，靠的是日常功夫與故障快判。日常維護(hù)：五項(xiàng)必修第一，勤清潔。進(jìn)氣口灰塵堆積達(dá)1mm時(shí)抽氣效率下降約10%，故每周須用軟布擦拭進(jìn)排氣口，必要時(shí)壓縮空氣吹掃，進(jìn)氣過(guò)濾器建議每3至6個(gè)月更換。第二，控溫度。電機(jī)溫度每升高10℃壽命減半，須確保運(yùn)行不超70℃，定期清理散熱片與風(fēng)扇積灰。第三，查密封。每月用肥皂水涂抹閥門連接處，有氣泡即密封不嚴(yán)，須及時(shí)更換O型圈等密封件。第四，規(guī)范操作。開機(jī)前空載跑合5至1...
在實(shí)驗(yàn)室與家庭廚房中，試管真空封口技術(shù)正逐漸走入人們的視野。這種看似簡(jiǎn)單的操作，背后卻蘊(yùn)藏著巧妙的物理原理與實(shí)用價(jià)值。核心在于利用機(jī)械或電動(dòng)裝置，將試管內(nèi)部的氣體抽出，形成低于大氣壓的負(fù)壓環(huán)境。具體過(guò)程可分為三步：1.密封準(zhǔn)備：將待保存的樣品或食材放入試管后，將特制的橡膠塞或塑料蓋置于管口。這類密封件通常帶有單向閥結(jié)構(gòu)，允許氣體單向流出，但阻止外部空氣進(jìn)入。2.抽氣階段：通過(guò)手動(dòng)泵或電動(dòng)真空泵連接密封件的接口，啟動(dòng)抽氣。泵體內(nèi)部活塞或葉輪旋轉(zhuǎn)，將試管內(nèi)空氣分子逐出。隨著氣體減...
問(wèn)：在使用中為什么有些金屬鍍不上？答：直流磁控濺射儀器針對(duì)不同金屬需要調(diào)整不同的參數(shù)，靶材厚度、本底真空度、氬氣環(huán)境、電流大小、磁場(chǎng)強(qiáng)弱都對(duì)鍍膜起著決定性的作用。比較容易鍍的金屬銅、銀、金等，日常鍍膜不容易鍍的金屬鉻、鎳、鋁、鈦等問(wèn)：為什么剛開始使用時(shí)可以鍍上，用過(guò)一段時(shí)間就不太好鍍了？答：可能存在磁場(chǎng)減弱，導(dǎo)致磁場(chǎng)無(wú)法穿透有些靶材。形成原因可能是在鍍膜時(shí)候忘記打開水冷機(jī)，高溫導(dǎo)致靶頭字長(zhǎng)減弱，磁場(chǎng)很難穿透厚的樣品，難以起輝。建議在選擇靶材的時(shí)候可以選擇薄一些的靶材，且在設(shè)備...
氣體配比器是一種用于精確控制多種氣體混合比例的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于環(huán)境監(jiān)測(cè)、工業(yè)生產(chǎn)、醫(yī)療呼吸、科研實(shí)驗(yàn)等領(lǐng)域。其核心功能是通過(guò)調(diào)節(jié)不同氣體通道的流量或壓力，實(shí)現(xiàn)預(yù)設(shè)濃度比例的穩(wěn)定輸出。然而，長(zhǎng)期使用或環(huán)境變化可能導(dǎo)致配比精度下降，因此校準(zhǔn)成為保障其性能的核心環(huán)節(jié)。本文將從校準(zhǔn)原理、流程設(shè)計(jì)、關(guān)鍵技術(shù)及注意事項(xiàng)等方面，系統(tǒng)闡述氣體配比器的校準(zhǔn)方式。一、校準(zhǔn)的基本原理與目標(biāo)氣體配比器的校準(zhǔn)本質(zhì)是通過(guò)對(duì)比設(shè)備輸出值與標(biāo)準(zhǔn)參考值，修正系統(tǒng)誤差的過(guò)程。其核心目標(biāo)是確保以下參數(shù)的準(zhǔn)確性...
高低溫真空循環(huán)老化的薄片器件，核心是厚度極小（從微米到毫米級(jí)）、形態(tài)扁平的電子與光電類器件，主要用于模擬太空、半導(dǎo)體制造、高1端裝備等極1端環(huán)境，通過(guò)加速老化暴露熱應(yīng)力、真空出氣、界面脫層等隱患，驗(yàn)證長(zhǎng)期可靠性。半導(dǎo)體芯片/裸片：處理器、FPGA、存儲(chǔ)芯片、傳感器裸片，核心薄片器件分類及用途1、半導(dǎo)體芯片與裸片這類薄片器件是各類電子系統(tǒng)的核心，包括處理器、FPGA、存儲(chǔ)芯片及各類傳感器裸片，主要用于航天、軍1工、汽車電子等高可靠領(lǐng)域。在高低溫真空循環(huán)老化中，重點(diǎn)驗(yàn)證其在極1端...
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